| 分散机类型：剪切分散机 | 物料类型：固-液 | 适用物料：化学品 |
| 品牌：IKN/依肯 | 应用领域：化工 | 型号：CMD2000 |
| 速度类别：无级变速 | 调速范围：0-14000r/min | 分散轮直径：55mm |
| 升降行程：0-100mm | 电机功率：4Kw | 产品类型：全新 |
| 变速方式：变频变速 | 速度范围：1200rpm以上 | 罐容量：0-1000L |
| 外形尺寸（长*宽*高）：450*350*750mm | 整机重量：45Kg |
新型高性能有机半导体纳米材料研磨分散机，锂电池分散机，高速剪切分散机，德国分散机
高性能有机半导体材料是有机光电器件的核心组成部分，是有机光电器件应用的基础。近期，上海有机所有机功能分子合成与组装化学院重点实验室李洪祥课题组在新型高性能有机半导体材料方面取得了系列进展。
针对目前高性能n-型有机半导体缺乏的现状和面临的挑战，李洪祥课题组在前期噻吩醌式n-型有机半导体研究的基础上（Chem. Mater. 2011, 23, 1204; Adv. Funct. Mater. 2013, 23, 2277; Chem. Mater.2014, 26, 5782），在噻吩醌式分子中引入呋喃结构单元，***合成了呋喃-噻吩醌式n-型有机半导体分子。该化合物显示了高的电子迁移率，其溶液法制备的晶体管器件迁移***达7.7 cm2/Vs。单晶结构和薄膜XRD结果显示呋喃-噻吩醌式分子在薄膜中呈面对面（face-to-face）的π-π堆积，且π-π堆积的方向与载流子传输方向一致。上述结果表明呋喃-噻吩醌式分子是一类优异的高性能n-型有机半导体
IKN研磨分散机，是将胶体磨和分散机一体化的设备，先研磨后分散，特别适用于锂电池浆料的生产和分散。
CMD2000系列研磨分散设备是IKN（上海）公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品，该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装，我们将三级变跟为一级，然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择）
优异受体结构单元的缺乏是制约新型高性能给-受体聚合物半导体发展的瓶颈之一。李洪祥课题组在前期高性能噻吩酰亚胺聚合物半导体工作的基础上，设计合成了系列双噻吩酰亚胺聚合物。电化学和吸收光谱显示这些聚合物在有机晶体管和有机太阳能电池方面具有潜在的应用。通过溶液方法构筑的薄膜晶体管测试表明，其薄膜器件呈现高性能的双极性载流子传输特性，其电子/空穴迁移率达1.02/ 0.33 cm2/Vs。基于ITO/PEDOT:PSS/Polymer:PC71BM/Ca/Al结构的太阳能电池表征显示，双噻吩酰亚胺聚合物电池具有高的开路电压和光电转化效率，其开路电压约为1.0 V，电池的光电转化效率可达6.46 %。
CMD2000系列研磨分散机的结构：研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。
***级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以***制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。
***级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是***转子齿的排列，还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以前的经验***工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出最终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。
