| 分散机类型：剪切分散机 | 物料类型：固-液 | 适用物料：化学品 |
| 品牌：IKN | 应用领域：化工 | 型号：CMD2000/4 |
| 速度类别：无级变速 | 分散轮直径：>55mm | 升降行程：20mm |
| 产品类型：全新 | 变速方式：变频变速 | 速度范围：1200rpm以上 |
| 罐容量：7L | 外形尺寸（长*宽*高）：440*320*750mm | 整机重量：86Kg |
| 规格：CMD2000/4 |
纳米三氧化二铝（又名氧化铝）粒径分布均匀，电阻***，具有良好的绝缘性能，广泛用于塑料，橡胶，陶瓷，涂料等绝缘性能要求高的领域。
纳米氧化铝用途：.绝缘材料专用陶瓷粉（纳米氧化铝）VK-L20涂层导，热绝缘复合材料，高压引入棒的绝缘体材料，满足X7R需要的多层陶瓷芯片电容器的绝缘材料
中国氧化铝企业达40多家，已建和在建产能达4350多万吨/年，其中处理国内铝土矿的产能为3250万吨/年，是世界大氧化铝生产国。 但是由于技术问题，我国生产的氧化铝产品以中低端为主流，价格低廉，生产设备落后，能耗大，利润不高。特别是纳米三氧化二铝产能不高，高端产品基本被跨国企业垄断。
在制备纳米氧化铝粉体过程中，由于其比表面积大，表面能高，容易产生粉末的团聚，破坏材料性能，所以现在将常规微米级氧化铝研磨成纳米级氧化铝，粉末团聚成了一个难题。上海IKN为应对这种现状研发的研磨分散机，很好的解决了这个难题。
CMD2000系列研磨分散设备是IKN（上海）公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品，该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装，我们将三级变跟为一级，然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择）
CMD2000系列研磨分散机的结构：
研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。
CMD2000系列研磨分散机的特点：
① 线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨
② 定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。
③ 定子可以***制的被调整到所需要的与转子之间的距离
④ 在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。
⑤ 高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。
具体选型请咨询设备工程师：13795214885 蔡先生
CMD2000系列设备选型表
型号 | 流量 L/H | 转速 rpm | 线速度 m/s | 功率 kw | 入/出口连接 DN | |
CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 | |
CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 | |
CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 | |
CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 | |
CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 | |
CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 | |
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到允许量的10%。
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1.表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
2.处理量取决于物料的粘度，稠度和最终产品的要求。
3.如高温，高压，易燃易爆，腐蚀性等工况，必须提供准确的参数，以便选型和定制。
4.本表的数据因技术改动，定制而不符，正确的参数以提供的实物为准.
研磨分散机和均质机的作用对比：
研磨分散机的细化作用一般来说要强于均质机，但它对物料的适应能力较强（如高粘度、大颗粒），所以在很多场合下，它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。
